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サムスン電子、線幅30ナノのNAND型フラッシュ、’09年度に量産へ   '07/10/23 「日本経済新聞」
http://www.asyura2.com/08/bd52/msg/198.html
投稿者 怪傑 日時 2008 年 2 月 23 日 13:26:57: QV2XFHL13RGcs
 

(回答先: 東芝、線幅15ナノ、100ギガビット級フラッシュメモリー実現へ基本素子試作  「IT+PLUS」 投稿者 怪傑 日時 2008 年 2 月 23 日 13:17:58)

 【ソウル=鈴木壮太郎】韓国のサムスン電子は23日、回路線幅が30ナノ(ナノは10億分の1)メートルと世界最先端の微細加工技術を採用したフ ラッシュメモリーを開発したと発表した。記憶容量は64ギガ(ギガは10億)ビットと世界最大で、2009年に量産を開始する。東芝も同年に30ナノ台の 技術での量産に着手する方針で、世界2強の競争がさらに激化する。
 対象はNAND型と呼ばれるメモリー。携帯音楽プレーヤーやメモリーカードに使い容量を増やしやすい。
 半導体回路の微細化を進めるとチップのサイズが小さくなるため1枚のウエハーから取れるメモリーの数が増え、生産コストが大幅に下がる利点がある。

サムスンは新技術の開発で、20ナノ台技術にもめどをつけたと説明している。(23:01)

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